基恩士VK-X3000：三重掃描技術(shù)重構(gòu)測(cè)量邊界

基恩士VK-X3000激光共聚焦顯微鏡以激光共聚焦、白光干涉、聚焦變化三重掃描模式為核心，突破傳統(tǒng)設(shè)備單一測(cè)量方式的局限。其激光共聚焦模塊采用404nm/661nm雙波長(zhǎng)半導(dǎo)體激光光源，配合16bit感應(yīng)光電倍增器，可實(shí)現(xiàn)0.01nm高度分辨率與0.1nm寬度分辨率，適用于金屬、陶瓷等高反射率材料的納米級(jí)形貌分析。白光干涉模式則通過(guò)分光干涉原理，將膜厚測(cè)量重復(fù)精度控制在0.1nm以內(nèi)，滿足半導(dǎo)體晶圓涂層厚度的嚴(yán)苛檢測(cè)需求。聚焦變化模式通過(guò)動(dòng)態(tài)調(diào)整物鏡焦距，可無(wú)損測(cè)量透明聚合物或玻璃表面的微米級(jí)凹凸，解決傳統(tǒng)接觸式探頭易劃傷樣品的痛點(diǎn)。

性能參數(shù)表：全尺度覆蓋的測(cè)量能力

硬件設(shè)計(jì)：模塊化結(jié)構(gòu)適配多元場(chǎng)景

設(shè)備主體采用航空級(jí)鋁合金框架，搭配電動(dòng)XY載物臺(tái)（手動(dòng)模式支持70mm×70mm范圍，電動(dòng)模式擴(kuò)展至100mm×100mm），可承載重量達(dá)5kg的樣品。光學(xué)系統(tǒng)配置6孔電動(dòng)鏡頭轉(zhuǎn)換器，支持2.5x-100x物鏡切換，并配備APO（復(fù)消色差）鏡頭組以消除色差。檢測(cè)器模塊集成超高精細(xì)彩色CMOS傳感器，像素?cái)?shù)達(dá)560萬(wàn)，可在單次掃描中同步獲取形貌數(shù)據(jù)與彩色紋理信息。

操作流程：智能化軟件降低使用門檻

用戶通過(guò)12英寸觸摸屏啟動(dòng)設(shè)備后，系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別樣品類型并推薦掃描模式。例如，檢測(cè)MEMS器件表面時(shí)，軟件會(huì)優(yōu)先調(diào)用激光共聚焦模式，并預(yù)設(shè)0.5μm步進(jìn)間距與50次平均采樣參數(shù)。測(cè)量完成后，內(nèi)置的292種分析工具可自動(dòng)生成3D形貌圖、功率譜密度圖等報(bào)告，支持導(dǎo)出STL格式文件用于3D打印逆向工程。

基恩士VK-X3000：三重掃描技術(shù)重構(gòu)測(cè)量邊界