白光干涉儀S neox的涂層厚度測(cè)量

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白光干涉儀S neox的涂層厚度測(cè)量：Sensofar S neox通過非接觸式臺(tái)階高度測(cè)量，可精確量化涂層或薄膜的厚度與均勻性，為質(zhì)量控制和工藝研究提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。

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更新時(shí)間：2025-11-17

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白光干涉儀S neox的涂層厚度測(cè)量

在許多工業(yè)應(yīng)用和科研領(lǐng)域中，對(duì)基材上的涂層、薄膜厚度進(jìn)行精確測(cè)量是常見的需求。涂層的厚度直接影響其光學(xué)、電學(xué)、機(jī)械和防腐性能。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀提供了一種非接觸式測(cè)量涂層厚度的方法，特別適用于需要測(cè)量局部厚度或無法進(jìn)行截面破壞性檢測(cè)的場(chǎng)景。

S neox測(cè)量涂層厚度的原理通?；趯?duì)臺(tái)階高度的測(cè)量。常用的方法是人為制造一個(gè)臺(tái)階：在涂層上制造一個(gè)微小缺口，使基材暴露出來。這可以通過輕微刮擦、使用掩膜或選擇性蝕刻等方式實(shí)現(xiàn)，關(guān)鍵是確保臺(tái)階邊緣清晰。

然后，使用S neox的白光干涉模式或高倍共聚焦模式掃描這個(gè)臺(tái)階區(qū)域。儀器會(huì)精確獲取從涂層表面到暴露的基材表面的高度差，這個(gè)高度差即為涂層的厚度。

這種方法的優(yōu)勢(shì)包括：

非破壞性（相對(duì)截面法）：無需將樣品切開制樣，對(duì)樣品本身破壞較小。

高分辨率：白光干涉模式可提供亞納米級(jí)的垂直分辨率，適合測(cè)量從納米到微米級(jí)的薄膜厚度。

定位測(cè)量：可以精確選擇樣品的特定位置進(jìn)行厚度測(cè)量，研究涂層的均勻性。

同時(shí)獲得形貌信息：除了厚度值，還能觀察涂層表面的形貌、粗糙度以及臺(tái)階邊緣的質(zhì)量。

需要注意的是，此方法需要制備一個(gè)清晰的臺(tái)階，且測(cè)量結(jié)果的有效性取決于臺(tái)階邊緣的質(zhì)量。對(duì)于非常硬或脆的涂層，制備清晰臺(tái)階可能需要技巧。對(duì)于多層膜結(jié)構(gòu)，測(cè)量會(huì)變得復(fù)雜。

盡管如此，對(duì)于許多常見的涂層，Sensofar S neox提供了一種有效的厚度測(cè)量方案。它將厚度測(cè)量轉(zhuǎn)化為精確的臺(tái)階高度測(cè)量，為涂層工藝的質(zhì)量控制和研究開發(fā)提供了一種可供選擇的手段。