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當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心三維光學(xué)輪廓儀Sensofar3D光學(xué)輪廓儀S neox在半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用

3D光學(xué)輪廓儀S neox在半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

3D光學(xué)輪廓儀S neox在半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用:Sensofar S neox通過(guò)白光干涉與共聚焦技術(shù),為晶圓翹曲、TSV通孔、CMP平整度及MEMS器件提供高精度三維測(cè)量,助力半導(dǎo)體工藝研發(fā)與質(zhì)量控制。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2025-11-20
廠商性質(zhì):代理商
訪問(wèn)量:51
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3D光學(xué)輪廓儀S neox在半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用

半導(dǎo)體技術(shù)作為信息產(chǎn)業(yè)的基石,其制造工藝不斷向著更小的線寬、更復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)發(fā)展。無(wú)論是優(yōu)良的芯片封裝技術(shù)如TSV(硅通孔),還是微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)器件,其內(nèi)部結(jié)構(gòu)的尺寸、形狀、粗糙度以及缺陷情況,直接關(guān)系到最終產(chǎn)品的性能和可靠性。在這些環(huán)節(jié)的質(zhì)量控制與工藝研發(fā)中,非接觸、高精度的三維表面測(cè)量技術(shù)顯得尤為重要。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀,結(jié)合了白光干涉和共聚焦技術(shù),為半導(dǎo)體行業(yè)提供了一種測(cè)量方案。

在半導(dǎo)體制造中,晶圓的翹曲和應(yīng)力是一個(gè)常見(jiàn)參數(shù)。過(guò)大的翹曲會(huì)影響光刻的對(duì)準(zhǔn)精度,并可能導(dǎo)致后續(xù)工藝中的破裂。S neox憑借其大面積拼接能力和快速的共聚焦掃描模式,可以對(duì)整個(gè)晶圓或大尺寸樣品進(jìn)行面形測(cè)量,快速獲取全場(chǎng)的三維形貌數(shù)據(jù),評(píng)估翹曲度和應(yīng)力分布,為工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支持。

對(duì)于三維集成電路中常見(jiàn)的硅通孔(TSV)結(jié)構(gòu),其深寬比和側(cè)壁形貌是工藝控制的重點(diǎn)。傳統(tǒng)的白光干涉儀在測(cè)量高深寬比結(jié)構(gòu)時(shí)可能會(huì)遇到衍射效應(yīng)等挑戰(zhàn)。S neox通過(guò)其5物鏡集成轉(zhuǎn)盤(pán)的變焦技術(shù),可以靈活選擇不同倍率、不同工作距離的物鏡,以適應(yīng)不同的結(jié)構(gòu)尺寸。同時(shí),其共聚焦模式能夠?qū)?cè)壁的粗糙度進(jìn)行有效評(píng)估,而白光干涉模式則能對(duì)孔底的平坦度進(jìn)行精細(xì)測(cè)量,這種多模式協(xié)作使得對(duì)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的全面表征成為可能。
在化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)后,晶圓表面的平整度和納米級(jí)別的表面缺陷直接影響到后續(xù)薄膜沉積的質(zhì)量。S neox的白光干涉模式在此類光滑表面的測(cè)量中能發(fā)揮其優(yōu)勢(shì),提供亞納米級(jí)的分辨率,精確量化表面的粗糙度參數(shù),并能夠通過(guò)其高對(duì)比度的光學(xué)成像系統(tǒng),快速定位和識(shí)別微米甚至亞微米尺度的劃痕、顆粒等缺陷。
此外,在MEMS器件的特性分析中,雖然S neox本身不是高速攝像機(jī),但其高精度的靜態(tài)形貌測(cè)量能力對(duì)于表征微彈簧的彈性系數(shù)、懸臂梁的靜態(tài)位移等參數(shù)有用。通過(guò)測(cè)量器件在施加電壓前后形貌的變化,可以間接推導(dǎo)出其工作特性,為設(shè)計(jì)和驗(yàn)證提供依據(jù)。

Sensofar S neox的3D光學(xué)輪廓儀在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用,體現(xiàn)了其對(duì)行業(yè)特定需求的響應(yīng)能力。它通過(guò)提供快速、全面且非破壞性的三維測(cè)量數(shù)據(jù),幫助工程師和研究人員深入理解工藝結(jié)果,輔助研發(fā)周期,并為生產(chǎn)過(guò)程的穩(wěn)定性提供信息。

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