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主動(dòng)照明多焦面疊加是一種為了測(cè)量粗糙的表面形狀而開發(fā)的光學(xué)技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)基于Sensofar在共聚焦和干涉3D測(cè)量領(lǐng)域的廣泛專業(yè)知識(shí)，專門設(shè)計(jì)用于補(bǔ)充低放大率下的測(cè)量。BACKGROUND多焦面疊加原理主動(dòng)照明多焦面疊加技術(shù)利用了明場(chǎng)中存在景深的特點(diǎn)，樣品只有在的特定z范圍中對(duì)焦。景深會(huì)根據(jù)物鏡的數(shù)值孔徑或光源波長(zhǎng)而變化。Z高度的值是根據(jù)圖像的高對(duì)比度（清晰度或微小細(xì)節(jié)）來計(jì)算的，從而得出正確的對(duì)焦位置。光學(xué)技術(shù)我們的光學(xué)技術(shù)是通過專*的microdisplay來實(shí)現(xiàn)，光線會(huì)...

Sensofar共聚焦白光干涉儀|共聚焦技術(shù)共聚焦技術(shù)能夠測(cè)量表面高度，將常規(guī)圖像轉(zhuǎn)換成光學(xué)剖面，其中，物鏡焦深范圍內(nèi)的那些區(qū)域的信號(hào)被保留，改善了圖像對(duì)比度、橫向分辨率和系統(tǒng)噪聲。光學(xué)方案對(duì)于3D成像，必須從相機(jī)的所有像素獲取數(shù)據(jù)。這意味著：重新構(gòu)建共聚焦圖像。為此，多狹縫圖像偏移一個(gè)像素，達(dá)到必要的次數(shù)，以填充相機(jī)。多狹縫每偏移一次，拍一張相機(jī)圖像，對(duì)那一刻照亮的像素應(yīng)用共聚焦算法。SENSOFAR專*技術(shù)光學(xué)結(jié)構(gòu)中沒有運(yùn)動(dòng)零件Sensofar系統(tǒng)中實(shí)施的共聚焦掃描技術(shù)是...

干涉工作原理干涉技術(shù)的工作原理是：將光分成光學(xué)傳播路徑不同的兩個(gè)光束，然后再合并，從而產(chǎn)生干涉。干涉物鏡允許顯微鏡作為干涉儀而工作；焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)后，可在樣本上觀察到條紋。光學(xué)方案PSI的光學(xué)方案與FV具有相同配置，但是現(xiàn)在采用干涉物鏡而不是明場(chǎng)。為了獲得形貌，沿著Z方向掃描傳感器頭。對(duì)于PSI，掃描幾微米，并檢索相位。對(duì)于CSI，掃描需要的微米數(shù)，以掃描完整表面。PSI:相移干涉對(duì)于所有數(shù)值孔徑(NA)，開發(fā)了相移干涉法(PSI)，以亞埃分辨率測(cè)量高度光滑和連續(xù)表面的高度?？梢允?..

薄膜透明層沉積在表面上時(shí)，其反射率會(huì)變化。該系統(tǒng)獲取可見范圍內(nèi)樣本的反射光譜，并與軟件計(jì)算的模擬光譜進(jìn)行比較，對(duì)層厚進(jìn)行修改，直到找到匹配的厚度。對(duì)于薄膜，厚度與光波長(zhǎng)類似，我們沿著光譜獲得波浪狀的反射率響應(yīng)。主要特征從50nm到1.5μm厚的透明薄膜可在不到5秒的時(shí)間內(nèi)測(cè)得從50nm到1.5μm厚的透明薄膜不到5秒內(nèi)采集一個(gè)物鏡可覆蓋整個(gè)范圍不同光斑大小(3.5μm到40μm)

SensofarCSI（白光干涉）是如何運(yùn)作的?Sensofar干涉為了測(cè)量超光滑的表面及中等粗糙表面的表面高度，通過干涉技術(shù)，可在任何放大倍率下實(shí)現(xiàn)相同的系統(tǒng)噪聲，它可實(shí)現(xiàn)優(yōu)于0.01nm的系統(tǒng)噪聲。干涉工作原理干涉技術(shù)的工作原理是：將光分成光學(xué)傳播路徑不同的兩個(gè)光束，然后再合并，從而產(chǎn)生干涉。干涉物鏡允許顯微鏡作為干涉儀而工作；焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)后，可在樣本上觀察到條紋。CSI（白光干涉）使用白光掃描光滑到中等粗糙表面的表面高度，任何放大倍率下均達(dá)到1nm的高度分辨率。采用干涉法，...

本案例研究中，Linkam和SensofarMetrology展示了在為溫控光學(xué)輪廓測(cè)量實(shí)驗(yàn)生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)裝置方面的合作。由于球面像差引起的成像問題，在過去一直是一個(gè)難點(diǎn)工序。使用Linkam的精密冷熱臺(tái)和Sensofar的Linnik物鏡解決了這些問題，實(shí)現(xiàn)了納米材料3D形貌輪廓的精確測(cè)量。我們觀察了硅晶片在20°C到380°C溫度范圍內(nèi)的形貌變化?？焖贌崽幚恚≧TP）是硅晶片制造過程中的一個(gè)重要步驟，其中晶片在短時(shí)間內(nèi)快速加熱到高溫，然后以受控方式緩慢冷卻，為晶片賦予所需的半導(dǎo)...

我們的研究涉及設(shè)計(jì)產(chǎn)生干涉顏色的微結(jié)構(gòu)。我們對(duì)這種光學(xué)機(jī)制的第一次報(bào)告出現(xiàn)在Goodling,A.E.,等(2019)的論文中?！巴ㄟ^微尺度凹面界面的全內(nèi)反射和干涉實(shí)現(xiàn)的顏色化。”Nature566(7745):523-527。光在微結(jié)構(gòu)內(nèi)通過全內(nèi)反射反彈，并且在經(jīng)歷不同反射路徑的光線之間發(fā)生光學(xué)干涉。我們?cè)O(shè)計(jì)微結(jié)構(gòu)化表面來控制光的反射和產(chǎn)生的顏色。我們需要測(cè)量表面地形，以便將光學(xué)性質(zhì)與表面幾何形狀關(guān)聯(lián)起來。微結(jié)構(gòu)的幾何形狀，如它們的深度、寬度、角度和表面粗糙度都會(huì)影響光學(xué)性...

該案例研究專注于開發(fā)具有高硬度和同時(shí)具有較低摩擦系數(shù)的納米復(fù)合W-C:H涂層。我們研究了在混合PVD-PECVD工藝中由添加到濺射大氣中的烴（主要是乙炔）得到的不同氫化碳基質(zhì)含量的W-C:H涂層系統(tǒng)。涂層是使用三種不同的PVD技術(shù)（直流磁控濺射、HiPIMS、HiTUS）制備的，通過不同的烴氣添加來控制氫化碳的含量。由于此處研究的涂層的摩擦行為是由球上的轉(zhuǎn)移層形成來控制的，而我們?cè)缙诘墓ぷ髦攸c(diǎn)是研究硬度和摩擦系數(shù)之間的基本關(guān)系，因此重點(diǎn)轉(zhuǎn)向了轉(zhuǎn)移層本身的演變的研究。重要的是要...